Etude par Ellipsomètrie de la structure du silicium microcristallin hydrogènè µc-Si: H

Notice brève
dc.contributor.authorABBES Charef
dc.date.accessioned2023-11-22T20:36:43Z
dc.date.available2023-11-22T20:36:43Z
dc.date.issued2006
dc.description.abstractDans ce travail nous nous intéressons à rélude de rellél des conditions de dépôt sur les propriétés structurales des couches à base de silicium tléposées par pulvérisation cathodique el par décomposition du silane assistée par plasma radiofréquenee (PIXA'D). le chapitre I donne un aperçu général et comparatif des différentes structures du silicium amorphe hydrogéné, r le caractériser Dans le deuxième chapitre nous décrivons les techniques d'élaboration de ce matériau, et nous exposons le principe de rellipsomélrie que nous avons utilisée pour le caractériser. En fm. le dernier chapitre est consacré aux résultats cxpénmenlaux obtenus. Nous examinons en particulier Teffet des conditions de dépôt à savoir la pression des gaz et de la température sur la structure du matériau préparé par deux techniques d'élaboration différentes : la pulvérisation cathodique et la PIX'VD. Nous examinons également la stabilité structurale des couches au cours du temps ainsi que l'eflet du substrat sur celle struc
dc.identifier.urihttps://dspace.univ-oran1.dz/handle/123456789/3824
dc.language.isofr
dc.subjectStructure; Silicium Microcristallin Hydrogéné (fic- ; Ellipsomètrie ; placages; hydrogène; température; fantome; l’argon; la modélisation; cinétique de croissance.
dc.titleEtude par Ellipsomètrie de la structure du silicium microcristallin hydrogènè µc-Si: H
dc.typeThesis
grade.Co-rapporteurL.CHAHED, Professeur
grade.ExaminateurA.KHELIL, Professeur
grade.ExaminateurR.MOSTEFAOUI, Dr
grade.OptionSciences Des Matériaux
grade.PrésidentJ D.SIB, Professeur
grade.RapporteurY. BOUIZEM, Professeur
la.SpécialitéPhysique
la.coteTH2299
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